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ALD (Atomic Layer Deposition)
ALD (Atomic Layer Deposition)
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Model: SPACE-T (Ultech)
Thermal ALD
Travelling-wave type Chamber
Chamber Temp.: up to 350 ℃
Canister Temp.: up to 150℃
Wafer size: ≤ 6 inch
Thickness Range : 1nm ~
Precursor: Zn, Ti / Reactant: O3
Pricing Info
Day based pricing : demo3
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